化学机械抛光(CMP)中的大颗粒检yabo214测

抛光与CMP泥浆的帮助是微电路制造的一个不可分割的部分。CMP泥浆的粒度分布(PSD)测量是保证其健康的必要条件，这是提高设备收率的关键参数。

除了测量PSD的平均尺寸外，该监测方法还必须能够检测由CMP输送系统、化学变化或应用剪切力引起的污染或颗粒聚集所导致的尾巴的存在。理想的表征系统必须能够提供准确的大颗粒计数(LPC)值。

粒子大小/计数技术

利用激光衍射和动态光散射等光散射技术可以获得颗粒的粒径和分布数据，但不能获得任何有意义的浓度数据。

粒yabo214子是由单粒子光学尺寸(SPOS)通过一个狭窄的测量室，从而提供准确的尺寸和浓度数据。SPOS的高分辨率可以检测从主要分布中剥离的单个颗粒，使其适合检测影响CMP浆健康的LPCs。yabo214SPOS是一个实验室和使用点(POU)仪器。

控诉系统的范围

诸如Entegris Accusizer的帮助下有效地确定大粒子尾，其可以在全浓度或自动稀释时进行测量以改善实验条件。图1显示了新的Entegris Accusizer FX系统（POU系统）可以在较高浓度下测量较小颗粒的大小。yabo214

图1所示。新的entegris Accusizer FX系统

新的FX传感器有更好的浓度限制，因为在聚焦光束的帮助下，分析的总体积减少。因此，测量可以在不稀释的情况下进行。FX传感器可以在比标准消光或散射传感器高200倍的浓度下测量0.65-20µm的大小范围。可以在512个通道中显示结果。

除了用作实验室或POU仪器外，该系统还可以安装在FX塔系统中，通过传感器/计数器实现四种CMP泥浆流的复用。通过这些配置，可以得到精确可靠的CMP浆料LPC数据。该仪器是测定CMP浆液中LPC > 0.5µm含量的可靠系统。在图2中，我们比较了不同的技术来确定1µm SiO的已知浓度₂与yabo214二氧化硅氧化物CMP浆基结合的颗粒。的扰动检测极限指控者(旧型号780)含量为0.07毫克/升

图2。微扰检测分析:一种比较仪器的方法，可以测量CMP浆中大颗粒的存在yabo214

LPC的检测

本实验用1µm的聚苯乙烯乳胶球(PSL)刺入一些常见的二氧化硅CMP浆中，以证实对CMP浆中1µm颗粒的测定能力。yabo214在确定了粒径和浓度后，使用具有FX传感器的accuizer FX POU系统对刺状颗粒进行稀释，以进行后续分析，FX传yabo214感器的范围为0.65-20µm。

结果1

将浆体A稀释至250:1，以确保测量值落在符合区域之外。然后将250mL样品悬液加入1.44mL 1000倍稀释的PSL原液(1.74 × 10)中⁷/mL)，并加药至100,000/mL。结果如图3、表1和表2所示。

图3。浆A前(蓝色)和后1µm穗(红色)

表格1。穗前的结果

直径范围（微米）	#部分。大小(# /毫升)	和Num > =直径。(# /毫升)
0.70 - 0.72	1107410	2637543
0.72 - 0.77	738493	1530133
0.77 - 0.82	372885	791640
0.82 - 0.87	203005	418755
0.87 - 0.92	100429.	215749←
0.92 - 0.98	54625	115320
0.98 - 1.04	32665	60695
1.04 - 1.11	13392	28030
1.11 - 1.18	7375	14639
1.18 - 1.25	4147.	7264
1.25 - 1.33	1762	3117
1.33 - 1.41	709	1355
1.41 - 1.50	213.	645
1.50 - 1.60	60	432
1.60 - 1.70	88	372

表2。穗后的结果

直径范围（微米）	#部分。大小(# /毫升)	和Num > =直径。(# /毫升)
0.70 - 0.72	1005006	2484223
0.72 - 0.77	633343	1479216
0.77 - 0.82	343434	845874
0.82 - 0.87	183631	502439
0.87 - 0.92	96589	318808.←
0.92 - 0.98	53409	222219
0.98 - 1.04	82906	168810
1.04 - 1.11	64733	85904
1.11 - 1.18	11916	21172
1.18 - 1.25	4192	9256
1.25 - 1.33	2477	5064
1.33 - 1.41	939	2587
1.41 - 1.50	371	1647
1.50 - 1.60	171	1776
1.60 - 1.70	0	1105

结果2

这里，使用FX POU系统测量没有稀释的二氧化硅浆液B(图4)。测量的浓度为~ 20,000颗粒/mL。yabo214然后，用57µL的1000倍稀释的1µm PSL标准品(浓度= 1.74 × 10⁷颗yabo214粒/mL)加入到200mL的原始泥浆中，以刺穿该样品。图5显示了峰值前后的结果。

图4。浆液B，不稀释，不穗

图5。浆B前(蓝色)后(红色)

结果3

工厂使用的料浆为料浆C，即1份料浆与2份去离子水的稀释。FX POU系统用于测量不稀释的基浆。图6显示了峰值之前的结果。浆体A和浆体b的LPC尾没有明显下降，浓度为~ 30000个颗粒/ mL > 0.7µm, 30mL浆体中颗粒数为~ 5500个颗粒。yabo214

图6。浆C，不稀释，不穗

然后，35μl的1000×稀释1μmpsl标准（浓度= 1.74 x 10⁷在yabo214250mL的基浆中加入一定量的颗粒/mL)，对C浆进行加钉。加钉前后C浆的结果如图7所示。峰值浓度估计为2500个粒子/毫升。yabo214

图7。浆C前(蓝色)和后(红色)钉

结论

结果表明，integris指控器FX的能力，以确定低浓度LPC的粒yabo214子在CMP泥浆。

该信息的来源、审查和改编来自于Entegris提供的材料亚博网站下载

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