涂层的光厚度由白光干扰确定，数学计算用于将模式转化为光学厚度。
在薄膜计量学中，这些数学计算用于确定已使用各种过程沉积在基板材料上的涂层的厚度和存在。
该测量范围有许多技术，包括椭圆测量法，细光法，光谱反射仪和X射线分析。光纤抽样工具和AVANTES仪器可以使光谱反射测量测量能够支持从太阳能到半导体和光学涂层测量的一系列行业中的应用。Avantes薄膜解决方案提供了许多底物上多层薄膜的低成本测量系统。
薄膜质量控制
薄膜沉积过程需要定期监控和质量控制，尤其是在涂料设施中实施和优化新食谱时。
典型的应用需要在初始阶段进行定期质量控制检查，需要高速离线测量系统来验证膜厚度。
Avantes薄膜解决方案实现了高速测量值，可以促进薄膜的存在和厚度验证。
薄膜反射法
在光谱反射学中，样品被白光照亮，尤其是卤素炎和钨卤素，在与样品的入射角处以垂直的入射角，然后测量相同几何形状的反射率和干扰。
基于可见，紫外线或红外涂层的性质，可能需要波长测量值以获得相对于理论反射曲线的测量曲线的正确拟合。
光学常数N和K的数据库用于开发理论曲线。折射率是N值，灭绝系数是K值。首先，采样过程涉及测量参考未涂层的底物，然后使用相同条件进行样品测量。
厚度和材料之类的底物特性是软件输入以及薄膜层特性。
软件算法用于捕获和分析将测量数据与从光学常数数据库得出的理论计算值进行比较的软件算法。
该软件提供了计算出的厚度值，以及相对于理论曲线的拟合优度。
单层薄膜计量学
Avantes的单层薄膜计量系统包括AVASPEC -ULS2048-USB2光纤光谱仪，Avalight-DHC/AVALIGHT-DH-S氘 - 释放光源或Avalight-Hal-Hal-Hal-Hal-Hal Halogen Light源，FCR-7UV200-2-ME（可选的FCR-7UV400-2-ME用于较高吞吐量）光纤反射探针和薄膜舞台。
Avantes的Avasoft ThinFilm软件驱动单层系统，是32或64位应用程序，该应用支持薄膜的单层测量值，范围从10nm-50µm，分辨率为1NM。
UV/VIS和NIS波长测量由200-1100nm的Avasoft-Thinfilm支持。该系统具有可选的薄膜标准，可提供涂层和未涂层的样品基板以验证目的。AVALIGHT DHC紧凑型炎卤素源可用于大多数镜面紫外线测量值，但对于更漫射的涂层表面，建议使用较高的功率Avalight-DH-S。
多层薄膜计量学
Avantes’ multi-layer thin film metrology system includes the company’s AvaSpec-ULS2048-USB2 fiber-optic spectrometer, AvaLight-DHc/AvaLight-DH-S deuterium halogen light source or AvaLight-HAL tungsten halogen light source, the FCR-7UV200-2-ME (optional FCR-7UV400-2-ME for higher throughput) fiber-optic reflection probe and its thin film stage. The TFProbe 2.0 is the software that drives the multi-layer system and has been developed by Angstrom Sun Technologies and is fully compatible with Avantes spectrometers.
该应用程序支持多达五层测量值，并支持多种方法，包括分散，NK常数和有效的介质近似（EMA）。TFProbe为输入层结构参数提供了用户友好的图形用户界面。
系统中可能包含可选的薄膜标准，该标准可提供用于验证目的的样品涂层和未涂层的基板。TFProbe支持200-1700 nm的UV/VIS和NIR波长，并使多个光谱仪的连接以支持此宽带波长测量能力。
Avalight-DHC紧凑型硫酸硫酸卤素源足以适合大多数镜面紫外线测量值，但对于更漫射的涂层表面，建议使用较高的功率Avalight-DH-S。
此信息已从Avantes BV提供的材料中采购，审查和改编。亚博网站下载
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