硅裂变处理数个湿化过程编译过程涉及多条腐蚀性纹理和净化槽,内含攻击性化学物,如氢氧化钠、氢氧化钾、过氧化氢、盐酸、氟硅酸、硝酸和氢氟酸
需要保持水槽稳定,以保持太阳能电池生产质量特此目的持续监控需要必要的规范
工具化
离子色谱学和电容学等常用分析技术测量时间为6-10分钟奇特的长处UV/NIR光谱上这些常用技术提供实时内联分析的能力,多亏它短度测量时间一秒以下
组合a防碱NIR沉浸探针多线性标定模型和分光光谱计可识别化学浴的单个成分
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图1防酸耐碱NIR沉浸探针
测量过程
一开始,光谱计通过浸入浴池的探针记录不同浓度化学物的典型频谱,随后通过软件和多线性回归法从不同光谱数据中创建标定模型
计算模型后可直接用于内联测量以确定波谱录制后浴团组成
鉴于标定模型能包含数项参数并发测量水槽中所有化学物的集中性都有可能避免个人接触不良化学物
光谱内监视求解的优缺点
以下是此法的优缺点光谱内联监控法:
- 实时内联监控
- 稳定浴控件常量高质量
- 可同时监控数个浴池
- 多亏优化流程延长服务寿命
- 提高产品质量
- 最小拒绝成本
- 近乎免维护
应用领域
下方为应用域光谱内联监控法:
| Alkaline和酸纹理浴 |
氢氟酸、硝酸、氟化酸、硫酸 |
| 冲浪 |
Alkalinity/acidity |
| Hydrophilization |
过氧化氢 |
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